图形转换及纳米压印系统(光刻机)

  • 仪器名称:光刻纳米压印

  • 厂商:德国,SUSS

  • 型号:SUSS MA6-SCIL

  • 购买日期:2017-8-24

  • 放置地点:化学楼B117室

  • 管理员:张盼科

  • 简介:紫外光波长:350-450 nm 光强:20 mw/cm2 (365 nm) 30 mw/cm2(405 nm) 光均匀性:±3 % 接近式曝光距离1-999 um,精度1 um Step 分辨率:0.8 um 套准精度:±0.5 um XY平台移动范围:±5 mm,±5°;移动精度:0.1 um,4E-5° 衬底:2'*2', 4'*4' 掩膜版:3', 5'