| 仪器名称:磁控溅射镀膜机 厂商:美国,Kurt J. Lesker Company 型号:Kurt J. Lesker PVD75 Proline SP 购买日期:2016-12-22 放置地点:化学楼B117室 管理员:张盼科 简介:品牌:科特·莱思科 型号:PVD75 Proline SP 腔室尺寸:15.25” 宽x 16.50” 宽 x 24” 高 靶枪:2”标准靶(RF);3”标准靶(DC);2”强磁靶(DC)。 射频电源:300 W 直流电源:1000 W 磁控溅射镀膜的工作原理是电子在电场作用下飞向基片的过程中与Ar原子发生碰撞使其电离,Ar+离子在电场作用下加速轰击靶材使其溅射,其中中性靶原子或分子沉积在基片形成薄膜,而二次电子被电场和磁场束缚在靶材表面并进一步电离出大量Ar+离子来轰击靶材,从而实现较高沉积效率。
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